JF-2型勞厄晶體分析儀能夠提供穩定的X射線光源,特點是利用可控硅和集成電路自動控制系統進行調流調壓,從而獲得一個強而穩定的射線光源.該機射線發生器功率大,整機穩定性高,操作簡單,可靠性強,防護完善,可與各種射線照相機一起構成X射線晶體分析儀,或用于其他用途的X射線光源.，廣泛用于冶金,機械,電子,化工,地質,,能源,等科研、企業、大專院校.
該X射線晶體分析儀，主要用于研究物質內部微觀結構。如：單晶定向、檢驗缺陷、物質定性、測定點陣參數、測定殘余應力等。
主要參數：
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電 源 |
AC220V 50HZ 30A |
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功 率 |
2 KW |
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靶 材 |
Cu（可選其他靶材） |
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管電壓 |
50 KV（分檔可調） |
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管電流 |
50 mA（分檔可調） |
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穩定度 |
±1% |
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保 護 |
過功率、過電壓、過電流、無水 |
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冷 卻 |
循環水、制冷水箱 |
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防 護 |
鉛有機玻璃與金屬結構防護罩 |
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相 機 |
A：德拜相機（粉沫相機）大、小兩種;) B:勞厄相機（平板相機）
（相機裝底片 ；暗室洗底片）上述兩種相機，用戶可自行選配置 | |
